发布时间:2024-12-27 13:06:35 来源:绣口锦心网 作者:热点
12月9日消息,突破据媒体报道,性进三星已成功开发出突破性的展星400层堆叠NAND Flash闪存技术,并已开始将该技术转移到大规模生产线。层N存开成最产
这一进展有望超越前不久已宣布量产321层NAND Flash的发完SK海力士。
三星计划在2025年国际固态电路会议(ISSCC)上详细介绍其1Tb容量400层堆叠TLC NAND Flash闪存,快年并预计于2025年下半年开始量产。季度
市场专家预测,末量如果进程加快,突破量产可能会在2025年第二季度末开始。性进
除了400层NAND Flash闪存,展星三星还计划增加其先进内存产品线的层N存开成最产产量,包括在平泽园区安装新第9代(286层堆叠)NAND Flash闪存生产设施,发完月产能为30000至40000片晶圆。快年
以及在中国西安工厂将128层堆叠(V6)NAND Flash闪存生产线转换为236层堆叠(V8)NAND Flash闪存产品制程。季度
目前,三星在全球NAND Flash闪存市场市占率为36.9%,面对SK海力士的竞争,三星的这一突破显得尤为重要。
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